cp测试(cp测试和FT测试哪种要求高)
芯片测试系列之CP、FT、WAT的区别
CP:Chip probing,wafer level的电路测试含功能;
FT:Final test,device level 的电路测试含功能。
CP与FT的主要区别:
(1)CP 一般是在测试晶圆,封装之前看,封装后都要FT的。不过bump wafer是在装上锡球,probing后就没有FT。
Chip Probing test
(2)FT是在封装之后,也叫“终测”。意思是说测试完这道就直接卖去做application。
Final test
CP与FT的主要作用:
(1)CP的主要目的就是把NG Die挑出来,可以减少封装和测试的成本,可以更直接的知道Wafer 的良率。
(2)FT是把NG chip挑出来,检验封装的良率。 现在对于一般的wafer工艺,很多公司多把CP给省了,为了减少成本。 CP对整片Wafer的每个Die来测试,而FT则对封装好的Chip来测试。 CP Pass 才会去封装。然后FT,确保封装后也Pass。
WAT:Wafer Acceptance Test,wafer level 的管芯或结构测试
对专门的测试图形(test key)的测试,通过电参数来监控各步工艺是否正常和稳定; CP是wafer level的chip probing,是整个wafer工艺,包括backgrinding和backmetal(if need),对一些基本器件参数的测试,如vt(阈值电压),Rdson(导通电阻),BVdss(源漏击穿电压),Igss(栅源漏电流),Idss(漏源漏电流)等,一般测试机台的电压和功率不会很高; FT是packaged chip level的Final Test,主要是对于这个(CP passed)IC或Device芯片应用方面的测试,有些甚至是待机测试;
WAT
Pass FP还不够,还需要做process qual 和product qual CP 测试对Memory来说还有一个非常重要的作用,那就是通过MRA计算出chip level 的Repair address,通过Laser Repair将CP测试中的Repairable die 修补回来,这样保证了yield和reliability两方面的提升。
CP是对wafer进行测试,检查fab厂制造的工艺水平。 FT是对package进行测试,检查封装厂制造的工艺水平 。对于测试项来说,有些测试项在CP时会进行测试,在FT时就不用再次进行测试了,节省了FT测试时间;但是有些测试项必须在FT时才进行测试(不同的设计公司会有不同的要求)。 一般来说,CP测试的项目比较多,比较全;FT测的项目比较少,但都是关键项目,条件严格。但也有很多公司只做FT不做CP(如果FT和封装yield高的话,CP就失去意义了)。 在测试方面,CP比较难的是探针卡的制作,并行测试的干扰问题。
FT相对来说简单一点。还有一点,memory测试的CP会更难,因为要做redundancy analysis,写程序很麻烦。
CP在整个制程中算是半成品测试,目的有两个,第一是监控前道工艺良率,第二是降低后道成本(避免封装过多的坏芯片),其能够测试的项比FT要少些。最简单的一个例子,碰到大电流测试项CP肯定是不测的(探针容许的电流有限),这项只能在封装后的FT测。不过许多项CP测试后FT的时候就可以免掉不测了(可以提高效率),所以有时会觉得FT的测试项比CP少很多。 应该说WAT的测试项和CP/FT是不同的。
CP不是制造(FAB)测的,而CP的项目是从属于FT的(也就是说CP测的只会比FT少),项目完全一样的;不同的是卡的Spec而已;因为封装都会导致参数漂移,所以CP测试SPEC收的要比FT更紧以确保最终成品FT良率。还有相当多的DH把wafer做成几个系列通用的die,在CP是通过trimming来定向确定做成其系列中的某一款,这是解决相似电路节省光刻版的最佳方案;所以除非你公司的wafer封装成device是唯一的,且WAT良率在99%左右,才会盲封的。
目前盲封的DH很少很少,风险实在太大,不容易受控。
CP用prober,probe card。FT是handler,socket。CP比较常见的是room temperature=25度,FT可能一般就是75或90度。CP没有QA buy-off(质量认证、验收),FT有 CP两方面
1. 监控工艺,所以呢,觉得probe实际属于FAB范畴
2. 控制成本。Financial fate。我们知道FT封装和测试成本是芯片成本中比较大的一部分,所以把次品在probe中reject掉或者修复,最有利于控制成本
FT: 终测通常是测试项最多的测试了,有些客户还要求3温测试,成本也最大。 至于测试项呢,
1. 如果测试时间很长,CP和FT又都可以测,像trim项,加在probe能显著降低时间成本,当然也要看客户要求。
2. 关于大电流测试呢,FT多些,但是我在probe也测过十几安培的功率MOSFET,一个PAD上十多个needle。
3. 有些PAD会封装到device内部,在FT是看不到的,所以有些测试项只能在CP直接测,像功率管的GATE端漏电流测试Igss,CP测试主要是挑坏die,修补die,然后保证die在基本的spec内,function well。 FT测试主要是package完成后,保证die在严格的spec内能够function。 CP的难点在于,如何在最短的时间内挑出坏die,修补die。 FT的难点在于,如何在最短的时间内,保证出厂的Unit能够完成全部的Function。
CP测试实例-芯片测试介绍(三)
我们前面有两期给大家做了芯片测试介绍,偏重于理论,下面这一期,我们理论联系实际,把芯片CP测试真正的动手操作起来。
1 基本概念介绍1.1 什么是CP测试CP(Chip Probing)指的是晶圆测试。CP测试在整个芯片制作流程中处于晶圆制造和封装之间。晶圆(Wafer)制作完成之后,成千上万的裸DIE(未封装的芯片)规则的分布满整个Wafer。由于尚未进行划片封装,芯片的管脚全部裸露在外,这些极微小的管脚需要通过更细的探针(Probe)来与测试机台(Tester)连接。
在未进行划片封装的整片Wafer上,通过探针将裸露的芯片与测试机连接,从而进行的芯片测试就是CP测试。
图 1 CP Test在芯片产业价值链上的位置
图 2 Wafer上规则的排列着DIE(来源于网络)
1.2 为什么要做CP测试Wafer制作完成之后,由于工艺原因引入的各种制造缺陷,分布在Wafer上的裸DIE中会有一定量的残次品。CP测试的目的就是在封装前将这些残次品找出来(Wafer Sort),从而提高出厂的良品率,缩减后续封测的成本。
而且通常在芯片封装时,有些管脚会被封装在内部,导致有些功能无法在封装后进行测试,只能在CP中测试。
另外,有些公司还会根据CP测试的结果,根据性能将芯片分为多个级别,将这些产品投放入不同的市场。
2 CP测试内容和测试方法SCAN
SCAN用于检测芯片逻辑功能是否正确。DFT设计时,先使用DesignCompiler插入ScanChain,再利用ATPG(Automatic Test Pattern Generation)自动生成SCAN测试向量。SCAN测试时,先进入Scan Shift模式,ATE将pattern加载到寄存器上,再通过Scan Capture模式,将结果捕捉。再进入下次Shift模式时,将结果输出到ATE进行比较。
图 3 Scan Chain示意图(来源于网络)
Boundary SCAN
Boundary SCAN用于检测芯片管脚功能是否正确。与SCAN类似,Boundary SCAN通过在IO管脚间插入边界寄存器(Boundary Register),使用JTAG接口来控制,监测管脚的输入输入出状态。
图 4 Boundary Scan原理图(来源于网络)
存储器
芯片往往集成着各种类型的存储器(例如ROM/RAM/Flash),为了测试存储器读写和存储功能,通常在设计时提前加入BIST(Built-In SelfTest)逻辑,用于存储器自测。芯片通过特殊的管脚配置进入各类BIST功能,完成自测试后BIST模块将测试结果反馈给Tester。
ROM(Read-Only Memory)通过读取数据进行CRC校验来检测存储内容是否正确。
RAM(Random-Access Memory)通过除检测读写和存储功能外,有些测试还覆盖DeepSleep的Retention功能和Margin Write/Read等等。
Embedded Flash除了正常读写和存储功能外,还要测试擦除功能。Wafer还需要经过Baking烘烤和Stress加压来检测Flash的Retention是否正常。还有Margin Write/Read、Punch Through测试等等。
DC/AC Test
DC测试包括芯片Signal PIN的Open/Short测试,电源PIN的PowerShort测试,以及检测芯片直流电流和电压参数是否符合设计规格。
AC测试检测芯片交流信号质量和时序参数是否符合设计规格。
RF Test
对于无线通信芯片,RF的功能和性能至关重要。CP中对RF测试来检测RF模块逻辑功能是否正确。FT时还要对RF进行更进一步的性能测试。
其他Function Test
芯片其他功能测试,用于检测芯片其他重要的功能和性能是否符合设计规格。
以上各项展开均有更复杂更细化的内容,此处不展开讨论,仅作粗略介绍。
3 CP测试流程3.1 可测试性设计DFT(Design For Test),可测试性设计。如第二节CP测试内容和测试方法所述,芯片测试中用到的很多逻辑功能都需要在前期设计时就准备好,这一部分硬件逻辑就是DFT。
DFT逻辑通常包含SCAN、Boundary SCAN、各类BIST、各类Function Test Mode以及一些Debug Mode。
测试人员需要在芯片设计之初就准备好TestPlan,根据各自芯片的规格参数规划好测试内容和测试方法。
· 芯片通常会准备若干种TestMode功能,通过配置管脚使芯片进入指定的测试状态,从而完成各个类型的测试。
· 对于SCAN和Boundary SCAN,需要插入ScanChain,根据芯片规模、Timing、SCAN覆盖率等参数,DFT工程师需要决定插入ScanChain的长短和数目。然后使用ATPG自动生成SCAN测试向量,覆盖率决定了测试向量的长短。为了节约成本还要对ScanChain进行压缩。然后再进行功能仿真和SDF仿真,保证功能和Timing满足要求。ATPG可输出WGL或STIL格式文件供Tester使用。细节还有很多,这里不再展开叙述了。
· BIST(Built-In SelfTest)逻辑。这些自测逻辑完成对ROM/RAM/Flash等功能的测试。
· Function Test Mode。一些专门的功能测试需要增加硬件逻辑,例如ADC/DAC/时钟等
3.2 选测试厂,测试机测试厂和测试机的选择要考虑芯片类型、测试内容、测试规格和成本等因素。
一套芯片测试设备称为ATE(Automatic Test Equipment),由机台(Tester)、Loadboard、Probe Card、Handler和测试软件等部分组成。CP测试ATE不需要Loadboard和Handler。
图5,ATE机器
按照侧重的芯片类型和测试内容分,测试机台有很多品牌和产品系列:
例如存储器芯片Advantest T55xx 系列等、数字混合信号或SoC芯片Teradyne J750 系列等,RF射频芯片Credence ASL-3000 系列等。
3.3 制作ProbeCard以及Test Program选择好测试机后,硬件方面需要制作ProbeCard,软件方面需要制作Test Program。
· ProbeCard是探针卡。
ProbeCard包括探针和芯片外围电路。裸DIE规则的布满整个Wafer,无论哪片Wafer,每颗DIE都有固定的位置,芯片管脚的位置也就固定。这些位置坐标和间距都信息在芯片投产前已经确定,制作针卡需要这些参数。探针有钨铜、铍铜或钯等材料,这些探针在强度、导电性、寿命、成本等方面各有特点。
针卡还需要确定同测数(Site)。增加同测数可以节约测试机时成本,但是受限于测试机台资源,同测数有上限,例如32/16/8/4。
图6,ProbeCard照片
· Test Program是测试程序。
测试程序控制整个机台的测试过程。
不同的测试机有不同的测试软件系统,对应的测试程序也有不同的格式。通常工程师提供WGL/STIL/VCD等格式的文件,再转换成测试机需要的文件格式,并增加其他测试程序。
3.4 调试以及结果分析Wafer由Foundry出厂转运至测试厂,ATE软硬件就绪后就可以开始进行调试了。
根据TestPlan,Pattern(测试向量)被分作不同的BIN,从而定位测试错误的位置。调试时还可以在系统上直接看到一个Pattern中错误的Cycle位置,工程师根据这些错误信息进行debug,修改Pattern和测试程序,逐个清理,直到所有BIN都PASS。
同测的多Site全部PASS,Loop多轮后,便可以在整片Wafer上Try Run。此时工程师还要调试探针力度、清理探针周期等参数,确保整片Wafer上每一次Touchdown都可以测试稳定。
整片Wafer的测试结果通常生成一个WaferMap文件,数据生成一个datalog,例如STD文件。WaferMap主要包含良率、测试时间、各BIN的错误数和DIE位置,datalog则是具体的测试结果。工程师通过分析这些数据,决定是否进入量产。
图7,WaferMap截图
3.5 量产进入量产阶段后,根据大量测试的统计数据,可以进行一些调整以进一步优化测试流程。
· 根据结果将错误率较高的BIN尽量排在靠前的位置,测试进行到第一个出错的BIN后就不在继续向下进行,以节省测试时间,并且防止已发现的错误导致后续测量损坏针卡。
· 将错误率较低的BIN排在靠后的位置,当错误率极低时,甚至删除该测试,以节省测试时间。
· 决定是否对出错的DIE进行复测。由于各种原因,对于出错的DIE,再重新测试一次可能会PASS。通常复测可以纠正一定比例的错误,但是要多用一部分测试时间,所以要综合考虑决定是否复测。
· 通常处于Wafer边缘位置的DIE出错的概率较高,综合考虑,有时可以直接将边缘DIE剔除,不进行测试就标为坏品,以节省测试时间。
· 还需要关注良率是否稳定,当连续出现良率较低的情况时,需要停止测试,进行数据分析,检查设备或与Foundry沟通。
量产CP测试的结果需要交给后续封装厂使用。通常是一个含有分BIN信息的Map文件,封装厂根据Map文件挑选好品封装,剔除坏品,还可以保留客户选择的特殊BIN别。
4 成本控制CP测试成本由前期一次性投入的固定成本和后期量产的可变成本组成。
4.1 固定成本固定成本包含DFT开发以及面积和功耗、ProbeCard制作和养护,Test Program制作和调试。
· DFT开发以及面积和功耗
DFT有开发成本。并且DFT硬件逻辑将占用一部分芯片面积(虽然很小),DFT要提高效率,减小面积和功耗。
· ProbeCard制作
ProbeCard有公板和专板两种。顾名思义,公板是公用板,专板是专用板。公板是在已有的板子上通过飞线等方式组成芯片外围电路,制作成本低,制作周期短,适用于对测试规格要求不高的CP测试。专板是为自家芯片专门制作的板子,适用于对外围电路要求高,测试规格精密的芯片,设计和制作成本高,周期长。
ProbeCard上的探针材料和探针数也影响成本。各种材料的探针各有特点,价钱也不同,这里不再展开。减少探针数量也能降低成本。
在资源允许的条件下要尽可能的增加同测数,多Site同测可以减少测试时间成本。
· Test Program制作和调试
Test Program有开发成本。调试时需要机台,有调试机时成本。还需要一片调试Wafer,调试过程中反复Touchdown会导致该片Wafer上的若干DIE无法再进行封装。
4.2 可变成本可变成本主要就是量产测试时间。量产测试时间是整个CP测试成本中的最重要组成。而且测试前期投入固定成本后,今后量产的全部成本几乎都在测试时间成本上。直接影响测试时间的内容主要有:DFT效率、同侧数、Test Program效率和一些量产策略。
· DFT效率
DFT测试执行的高效直接影响单个DIE的测试时间。因此在芯片设计之初,DFT就要考虑到测试效率。减少测试时间,提高覆盖率,这对节约成本至关重要。
提高测试时钟;Scan使用压缩模式;缩减TestMode上电时间;检查测试计划,缩减不必要的测试项;检查测试策略是否合理,优化测试方案等等。一切DFT设计以提高效率为根本原则,既要高覆盖率,又要缩减时间。有时这两者之间的矛盾则需要相互权衡。
· 同侧数
在资源允许的条件下要尽可能的增加同测数,多Site同测可以减少测试时间成本。
· Test Program效率
和DFT效率相比,测试程序效率作用不大,但是合理安排测试程序还是可以缩减测试时间。例如在程序中减少不必要的等待时间;多个测试项并行进行等。
· 一些量产策略
如3.5关于量产一节所述,一些量产的策略可以节约测试时间。
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